主要用于電學、磁學、微波、THz、光學等多種測量，可以根據(jù)客戶需要，選擇不同的溫度和磁場配置。

M81-SSM（同步源和測量）系統(tǒng)消除了多種特定功能儀器安裝的復雜性，一臺儀表可提供源、測量和鎖相功能，可進行各種高精度的電學測量功能。

采用全新的FastHall測量專丶利技術，在測量過程中無需翻轉(zhuǎn)磁場，尤其是在使用強磁場超導磁體或測量極低遷移率材料時，可以實現(xiàn)更快、更精確的測量。

通過不同測試選件，可以選擇15 K至1273 K溫度環(huán)境，測量0.5 µΩ~200 GΩ的電阻，確定載流子濃度和載流子遷移率與溫度的關系等。

可進行電學和各種磁學測量，測量快速方便，磁測量精度維持10^-8emu頂尖水平。

提供9、12、14T多種型號超導磁體，無縫銜接50mK稀釋制冷機，提供電學、磁學、熱學多種測量方案。

低溫強磁場，兼顧VSM、各向異性磁阻測試，鐵磁共振測試等。

極低溫強磁場Raman掃描成像；0.12 nm極低震動；1.65K-300K，9T-12T&矢量磁場。

無液氦超低震動（0.12 nm）；溫度和磁場：1.65K-300 K，9T,12T,矢量磁場；兼容MFM/CFM/RAMAN/NV色心等模式測量。

0.12 nm極低震動；1.65K-300K，9T-12T&矢量磁場，配備各種低溫消色差物鏡，NA大于0.8。

20-50 nm空間分辨率；無液氦超低震動（0.12 nm）；溫度和磁場：1.65K-300 K，9T,12T,矢量磁場。

無液氦低溫10K AFM/qPlusAFM系統(tǒng)；全溫區(qū)實現(xiàn)原子級分辨圖像；與UFO腔體/MBE/PLD/LEED/APERS真空互聯(lián)。

極低溫強磁場下的NV色心測量；無液氦超低震動；溫度和磁場：1.65K-300 K，9T,12T,矢量磁場；集成低溫物鏡。

10K全自動干式高真空低溫恒溫器；10 nm空間分辨 s-SNOM和nano-FTIR；兼容紅外到THz波段光源。

兼具7T磁場、1.7K低溫、超低震動、自由光路、近工作距離，可進行MOKE、RMCD、Raman、PL等光譜測量。

Janis提供多種多樣的低溫恒溫器，最丶低溫度至1.5K，大范圍的樣品溫度能適用于大部分的科研實驗。根據(jù)不同需求，可以選擇樣品處于真空環(huán)境或交換氣體環(huán)境中。

5 nm超低震動，10 mK溫度穩(wěn)定性，自由光路，大數(shù)值孔徑，電學通道，配置靈活。

XAFS和XES兩種測量模式；常規(guī)實驗室環(huán)境使用, 無需同步輻射光源; 集成各種原位反應池。

用于晶體定向測試，操作簡單，測試快速，配備六軸樣品臺。

單角度一次入射，快速、準確獲得殘余應力。

熱電材料性能評價的經(jīng)典設備。

最大溫差500℃，測試熱電器件的轉(zhuǎn)換效率/發(fā)電量。

適用于小模塊熱電器件的測量，可測單一樣品。

全新一代的8600系列VSM，具有超高的靈敏度和超快的采集速度，可以滿足各類磁學測量。產(chǎn)品設計方面也進行了升級，軟件功能更強大，設備操作更簡單。

10^-12emu靈敏度，單條回線1s內(nèi)可以獲得，適合微區(qū)磁滯回線和磁疇觀測。

大圓晶樣品非接觸無損測量；載流子遷移率, 散射時間, 濃度分析；電導率和電阻率分析。

集成多種AFM、SEM和EDS功能，實現(xiàn)材料二維和三維的形貌、成分分析、力學性能、電學性能，磁學性能表征。

5kV加速電壓，多種成像模式；高亮度、高對比度、體積小巧；操作簡單，維護成本極低。

10-25kV加速電壓，多種成像模式，配有EDS；高亮度、高對比度、分辨率高；操作簡單，維護成本極低。

小巧易用，三次鼠標點擊可得到納米級形貌，性價比高，滿足各類樣品納米尺度快速表征的需要。

500 nm分辨紅外和拉曼顯微成像；無損反射式測量+透射測量；紅外+拉曼同步測量。

超高空間分辨和時間分辨同時實現(xiàn)探測；空間分辨率20-50 nm，Pump光源時間分辨可達50 fs。

10 nm空間分辨率近場光學成像與光譜測量；特殊高階解調(diào)背景壓縮技術，兼容可見光、紅外、超快和太赫茲。

實現(xiàn)納米級THz成像和光譜學測量；兼容寬帶和單頻THz信號 ；復雜材料中的電學測量。

10 nm空間分辨率的納米傅里葉變換紅外光譜；靈敏度高，適應于有機、生物、化學等材料高精度鑒別。

一套設備、一束激光實現(xiàn)三種超快光譜探測：瞬態(tài)吸收光譜TAS、相干拉曼光譜ISRS、多維相干光譜MDCS。

無需掩膜板，結構小巧緊湊；高分辨率（0.4 μm）；適應于MEMS、微流控、芯片等納米結構制備。

溫度梯度優(yōu)化方案，溫度反饋控制，最高溫度3000°C。

最高溫度3000°C，最高壓力300bar，可生長多種單晶樣品。

高效鍍金橢球反射鏡，占地面積小，操作簡單。

多片基片/批量粉末制備；溫度條件精確控制；小巧機身設計：75x56x28 cm。

金屬有機物熱蒸發(fā)、磁控濺射、共濺射、反應濺射、配置靈活、功能齊全、智能控制。

可快速制備石墨烯的小型CVD系統(tǒng)，最快30分鐘即可完成整個過程，完備的智能、安全性設計。

超高精準刻蝕，可逐層刻蝕石墨烯，可制造面內(nèi)缺陷，可對清洗石墨基材表面。

通過離子束工藝來調(diào)控薄膜和異質(zhì)結構，可用于半導體工藝，以及MRAM、斯格明子，磁性隧道結等多種磁性研究。

500 nm分辨紅外和拉曼顯微成像；無損反射式測量+透射測量；紅外+拉曼同步測量。

XAFS和XES兩種測量模式；常規(guī)實驗室環(huán)境使用, 無需同步輻射光源; 集成各種原位反應池。

高分辨率（0.32Hz）、高靈敏度（30:1）無液氦核磁，采用特殊先進的信號探測技術，可實現(xiàn)¹H/¹³C/¹⁹F/²³Na/²⁹Si/³¹P/¹¹B/⁷Li/¹¹⁹Sn等雜核探測。

原位即時空間分辨光譜（Operando Spectroscopy）對催化反應動力學監(jiān)測，可視化測量物質(zhì)在反應器不同位置的實時狀態(tài)。

10 nm空間分辨率的納米傅里葉變換紅外光譜；靈敏度極丶高，適應于有機、生物、化學等材料高精度鑒別。