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臺式無掩膜光刻機助力大面積MoTe2/Si高速光電探測器設(shè)計新思路

更新時間:2024-11-08點擊次數(shù):212

文章名稱:A High-Speed Image Sensor Based on Large-Area MoTe2/Si Photodiode Arrays

期刊名稱:Advanced Optical Materials IF:8.0

DOI: https://doi.org/10.1002/adom.202400547

 

【引言】


在寬帶光電探測器的研究領(lǐng)域中,科研人員致力于解決將二維材料(例如二硒化鉬(MoTe2))直接生長于三維硅基板上的技術(shù)難題。此項技術(shù)的目標在于解決2D-3D異質(zhì)結(jié)整合時所遇到的多重障礙,包括晶格不匹配、界面狀態(tài)以及材料相容性等課題。過往通過轉(zhuǎn)移技術(shù)應用2D材料,雖可保留其固有性質(zhì),但此法在擴展性和工藝整合方面常顯不足。通過研發(fā)直接外延生長的方法,研究人員期望達成高效且成本效益高的寬帶光電探測器陣列。此舉不僅促進光電探測器在光通訊、影像技術(shù)及環(huán)境監(jiān)測等領(lǐng)域的推廣,還與現(xiàn)行的硅基集成電路生產(chǎn)流程兼容。然而,要實現(xiàn)此技術(shù),需克服均質(zhì)性、晶體品質(zhì)以及光電轉(zhuǎn)換效率等核心技術(shù)難點,這為材料科學及半導體制造工藝帶來了新的挑戰(zhàn)與要求。

 

近日,復旦大學相關(guān)課題組利用小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)-MicroWriter ML3成功解決了在硅基板上直接外延生長MoTe2薄膜的挑戰(zhàn),通過創(chuàng)新的固態(tài)相變和重結(jié)晶過程,成功制造了高質(zhì)量的2H-MoTe2/Si 2D-3D異質(zhì)結(jié)光電二極管陣列,實現(xiàn)了100%的器件成品率。其成就包括:光電二極管展示了快速的光響應、高靈敏度和出色的探測能力,并通過使用卡通“兔子"影像掩模板證明了其在可見光和近紅外光下的成像性能。這項工作為將2D材料與現(xiàn)有硅基技術(shù)整合提供了一條新穎且成本效益高的途徑。相關(guān)研究成果以《A High-Speed Image Sensor Based on Large-Area MoTe2/Si Photodiode Arrays》為題,發(fā)表于SCI期刊《Advanced Optical Materials》上。

 

文中采用的小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)-MicroWriter ML3無需掩膜板,可以在非傳統(tǒng)基底上迅速實現(xiàn)高精度的光刻任務,能夠滿足科研中對光刻和套刻的不同需求,為各類研究中微納器件的優(yōu)化和迭代提供了保障,助力并加快了相關(guān)領(lǐng)域的研究進度。



小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3

 

【圖文導讀】



圖1. 硅基底上2H-MoTe2薄膜材料的特性表征。a) MoTe2的拉曼光譜,其中也有硅的拉曼峰。b) MoTe2的XPS光譜,顯示了Te3d(藍色)和Mo3d(紅色)峰。c) 所制備的MoTe2/Si異質(zhì)結(jié)的AFM表征結(jié)果。d) 2H-MoTe2薄膜橫截面的TEM圖像。e) MoTe2/Si光電二極管制造過程的示意圖。



圖2. 光電子傳輸機制與I-V曲線表征。a)在無光照條件下,MoTe2/Si光電二極管陣列的I-V特性。橙色和藍色曲線分別對應對數(shù)坐標和線性坐標。插圖:2H-MoTe2/Si光電二極管的結(jié)構(gòu)圖。b)在32 × 32光探測器陣列中隨機選取的64個探測器, Vbias從-1.5到-0.5V的范圍內(nèi)的I-V曲線。c)在無光照條件下,不同電壓下對應的電阻的變化。d)在無光照條件和900 nm波長光源的光照下MoTe2/Si光電二極管的I-V特性圖。e)2H-MoTe2/Si異質(zhì)結(jié)的能帶圖(i)平衡態(tài),(ii)無光照條件下的反向偏壓,以及(iii)在光照下的反向偏壓。



圖3. MoTe2/Si 2D-3D異質(zhì)結(jié)光電二極管的光電子特性。a) MoTe2/Si光電二極管在黑暗中和在不同照明波長(從300 nm到1200 nm,步長為100 nm)下的I-V特性曲線。b) I-V特性曲線以對數(shù)坐標表示。c) 在900 nm波長光源光照下,MoTe2/Si光電二極管在不同照明強度的I-V特性曲線變化。d) 以對數(shù)坐標下的I-V特性曲線。e,f)在不同光照波長和強度下的響應度(R)和探測率(D*)值的變化。



圖4. MoTe2/Si光電二極管的光電電流響應特性。a)和b)不同波長和光照強度下,器件的電流響應特性。c,d)高速光脈沖條件下的電流響應特性。e)電流上升和下降過程的示意圖。f)剛制備的MoTe2/Si光電探測器的相應電流與存儲6個月后的器件的性能的比較結(jié)果。



圖5. 視覺圖像傳感系統(tǒng)和光電探測器陣列。a)用于光電探測器陣列的成像測量系統(tǒng)示意圖。b)使用圖像傳感器通過光學模板投影進行圖像捕捉的示意圖解。c) 制備的32 × 32像素圖像傳感器的光學顯微圖像及其放大圖。d)像素陣列對不同波長光的響應結(jié)果,(i) 紅光(650 nm)、綠光(550 nm)、藍光(450 nm),(ii) 900 nm近紅外光,和(iii) 1100 nm近紅外光。

 

【結(jié)論】


綜上所述,復旦大學相關(guān)課題組成功研制了一種創(chuàng)新的MoTe2/Si 2D-3D異質(zhì)結(jié),致力于高速寬帶光電二極管的應用,并對其光響應特性進行了全面研究。實驗結(jié)果表明,該光電二極管具有優(yōu)秀的性能,具體表現(xiàn)為521.1 mA/W的響應度,1.17 × 1011 Jones的探測率,響應時間小于4 ms光響應波長范圍為300至1100 nm。我們還證實了MoTe2/Si光電二極管陣列的高度均勻性和100%的有效像素率。該設(shè)備的高性能主要歸功于高純度的2H-MoTe2單晶材料以及與硅基板之間界面缺陷的顯著減少。通過采用非對稱電極設(shè)計,成功增強了異質(zhì)結(jié)內(nèi)部的電場效應。此外,本研究構(gòu)建了成像系統(tǒng),并成功獲取了32 × 32像素陣列的清晰光響應圖像。這項研究為2D-3D異質(zhì)結(jié)構(gòu)在高速寬帶光檢測器應用中開辟了新的技術(shù)路徑。


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1、小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3https://www.chem17.com/usermanage/default.aspx?pro_promanage

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