010-85120280,887
010-85120280,887
產(chǎn)品中心
PRODUCTS CNTER
當(dāng)前位置：首頁(yè)
產(chǎn)品中心材料制備/樣品合成納米直寫、光刻設(shè)備Microwriter ML3小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Microwriter ML3小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊（70cm X 70cm X 70cm），無(wú)掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
產(chǎn)品分類
?
小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)
小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)Microwriter ML3是英國(guó)Durham Magneto Optics公司為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究域提供方便高效的微加工方案。
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板 的方法，克服了這問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過(guò)電腦控制系列激光脈沖的開關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
Microwriter ML3 是款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無(wú)掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
產(chǎn)品點(diǎn)
| Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能 Focus Lock技術(shù)是用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè)，并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率。 | 光學(xué)輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。 |
|
|
| 標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別 點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。 | 直寫前預(yù)檢查 軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面，并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過(guò)實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度，直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫準(zhǔn)確。 |
|
|
簡(jiǎn)單的直寫軟件 MicroWriter 由個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。 | Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件（DXF, CIF, GDSII, 等） 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 書寫范圍只由基片尺寸決定 |
| |
產(chǎn)品參數(shù)
| Microwriter ML3 | 基本型 | 增強(qiáng)型 | 旗艦型 |
| 大樣品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
| 大直寫面積 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
| 曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 適用于SU-8 （365+405nm雙光源可選） |
| 直寫分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
| 直寫速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm |
| 對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭 | x10 | x3 and x10 自動(dòng)切換 | x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換 |
| 多層套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
| 小柵格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
| 樣品臺(tái)小步長(zhǎng) | 100nm | 100nm | 50nm |
| 光學(xué)輪廓Z分辨率 | 無(wú)(可升) | 300nm | 100nm |
| 樣品表面自動(dòng)對(duì)焦 | 是 | 是 | 是 |
| 灰度直寫(255) | 是 | 是 | 是 |
| 自動(dòng)晶片檢查工具 | 無(wú)(可升) | 有 | 有 |
| 溫控樣品腔室 | 無(wú) (可升) | 無(wú) (可升) | 有 |
| 虛擬模板校準(zhǔn)工具 | 無(wú)(可升) | 無(wú)(可升) | 有 |
| 氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái) | 無(wú)(可升) | 無(wú)(可升) | 有 |
應(yīng)用案例
直寫分辨率1μm
直寫分辨率0.6μm
微電制備
| 光刻膠上的圖形 | Au電 （SEM） | Au電（SEM） |
 |  |  |
| 設(shè)計(jì)圖 | 光刻膠上的圖形 | 放大圖的顯微結(jié)構(gòu) |
 |  |  |
微結(jié)構(gòu)制備
 |  |
 |  |
微流通道制備
 |  |
其他相關(guān)產(chǎn)品
3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī)
Copyright © 2024QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易（北京）有限公司 All Rights Reserved 備案號(hào)：京ICP備05075508號(hào)-3
技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng)
管理登錄 sitemap.xml
相關(guān)文章
上一個(gè)：
返回列表