美國(guó)Thermal Technology自動(dòng)熱處理爐

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

美國(guó)Thermal Technology自動(dòng)熱處理爐/陶瓷熱處理爐，全自動(dòng)、無(wú)人值守操作，Z高可定制溫度達(dá)2500℃。工件熱處理循環(huán)時(shí)升溫速率>100℃/min，降溫速率可達(dá)300℃/min

產(chǎn)品型號(hào)：APF 0925-MM

更新時(shí)間：2024-04-18

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問(wèn)量：1802

產(chǎn)品咨詢 13021034795

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

材料制備/樣品合成

單晶爐薄膜、顆粒、膠體等制備爐子（燒結(jié)爐、電弧爐等）納米直寫、光刻設(shè)備

查看全部產(chǎn)品

探索活細(xì)胞脂肪代謝過(guò)程：光學(xué)紅外顯微成像技術(shù)揭開DNL的奧秘

How It’s Made——鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的崛起

成果速遞|小型無(wú)掩膜光刻直寫系統(tǒng)的新研究應(yīng)用

詳細(xì)介紹在線留言

自動(dòng)熱處理爐/陶瓷熱處理爐

美國(guó)Thermal Technology自動(dòng)熱處理爐(APF Automatic Processing Furnace systems)與陶瓷熱處理爐(CPF Ceramic Processing Furnace systems)可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)、無(wú)人值守操作，可定制溫度達(dá)2500℃。工件熱處理循環(huán)時(shí)升溫速率>100℃/min，降溫速率可達(dá)300℃/min。氫氣爐/高真空爐可選?？稍跔t頂與爐底裝備加熱器，整個(gè)熱區(qū)的溫度均勻性*。

美國(guó)Thermal Technology的APF與CPF系列爐具適于對(duì)高純度的進(jìn)陶瓷材料進(jìn)行熱處理，避免了其對(duì)傳統(tǒng)石墨爐污染的敏感性。APF與CPF的高真空和高溫使其也適于難熔金屬的加工。不含真空泵的APF與CPF可以通入惰性或還原性氣氛。

系統(tǒng)組成：真空腔，金屬熱區(qū)，電源，真空泵，可編程控制系統(tǒng)；可定制升。

系統(tǒng)的熱區(qū)可在多種環(huán)境內(nèi)工作：濕/干氫氣、離解干氨、惰性氣體、氮?dú)?、真空等?span style="box-sizing: border-box; text-indent: 2em;">加熱體根據(jù)不同的工作溫度使用鉬片、鉬網(wǎng)、鎢網(wǎng)等，表面積大，可提高工作區(qū)的溫度均勻性。多種產(chǎn)量、溫度、處理能力可選，滿足您的多種需求。

APF與CPF系列產(chǎn)品點(diǎn)

* 好的溫度均勻性

* 快速的循環(huán)時(shí)間

* 編程與控制

* 處理進(jìn)程序列控制

* 易于裝料

* 自動(dòng)處理

* 性能穩(wěn)定

* 可同時(shí)作為高溫真空爐

* 溫度高達(dá)2500°C

* 快速的熱響應(yīng)

* 露點(diǎn)檢測(cè)與控制

* 濕/干氫氣氛

* 對(duì)參數(shù)變化的快速響應(yīng)

* 多種尺寸、產(chǎn)能可選

* 可供燒金屬化陶瓷

* 控制氣氛防護(hù)

加熱體	輻射屏蔽	溫度可達(dá)	常規(guī)溫度
鎢	鎢&鉬	2500°C	2200°C
鉬	鉬&不銹鋼	1700°C	1600°C

設(shè)備型號(hào)

APF 0925-MM

APF 2036-WW

CPF 121212W-WW

undefined

APF 0716-MS

立式真空爐

THERMAL TECHNOLOGY全自動(dòng)立式真空爐采用圓柱形加熱體，在低功率下可以控制形成均的溫度，因此能延長(zhǎng)加熱體的壽命。多重輻射罩在節(jié)省能量的同時(shí)也可以保護(hù)工作環(huán)境、加快熱循環(huán)速度。熱區(qū)設(shè)計(jì)有助于延長(zhǎng)在高工作溫度下的壽命。

立式的APF/CPF爐具采用冷壁設(shè)計(jì)，具有輻射防護(hù)。頂部/底部裝卸與鐘罩升降等批量處理爐可選。爐體的雙層爐壁與不銹鋼爐腔由液壓驅(qū)動(dòng)升離底盤與爐床，便于裝卸工件與設(shè)備。采用新的微處理器控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)數(shù)字化溫度控制與處理序列，每次可以存入超過(guò)50條處理程序。程序輸入方便，并可以在操作過(guò)程中進(jìn)行實(shí)時(shí)修改。

裝完工件，設(shè)置程序處理序列后，所有操作*自動(dòng)，操作完成后系統(tǒng)會(huì)發(fā)出信號(hào)提示。

型號(hào)	工作區(qū)尺寸	工作區(qū)容量	處理量
APF-0716	Ф 6” x 12“	0.2 立方英尺	40 磅
APF-0925	Ф 8” x 16”	0.5 立方英尺	75 磅
APF-1230	Ф 10” x 20”	0.9 立方英尺	150 磅
APF-1836	Ф 15”x 28”	3.1 立方英尺	500 磅
APF-2444	Ф 20”x 36”	6.5 立方英尺	1000 磅
APF-3060	Ф 24”x 48”	12.6 立方英尺	1500 磅
APF-4060-MS	Ф 36" x 48"	17.2 立方英尺	1500 磅
CPF-0716-MS	Ф 4”x 10”	0.1 立方英尺	40 磅
CPF-0925-MS	Ф 5.5”x 14”	0.2 立方英尺	75 磅
CPF-1230-MS	Ф 8.5”x 16”	0.5 立方英尺	150 磅
CPF-1836-MS	Ф 12.5”x 20”	1.4 立方英尺	500 磅
CPF-2444-MS	Ф 17.5”x 24”	3.3 立方英尺	1000 磅
CPF-3060-MS	Ф 21.0”x 36”	7.2 立方英尺	1500 磅
Top	5Фx 10	0.1	612
Top	10Фx 14	0.6	1218
Bottom	13Фx 18	1.4	1624

臥式真空爐

臥式真空爐采用網(wǎng)狀加熱體，低功率下可以控制形成均的溫度，因此能延長(zhǎng)加熱體的壽命。多重輻射罩在節(jié)省能量的同時(shí)也可以保護(hù)工作環(huán)境、加快熱循環(huán)速度。熱區(qū)設(shè)計(jì)有助于延長(zhǎng)在高工作溫度下的壽命。臥式真空爐多可配備6個(gè)立熱區(qū)，可實(shí)現(xiàn)好的溫度均勻性。

臥式的APF/CPF爐具采用冷壁設(shè)計(jì)，具有輻射防護(hù)，均為前部裝卸的批量處理爐。爐體的雙層爐壁與不銹鋼爐腔前部留有裝料口。采用新的微處理器控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)數(shù)字化溫度控制與處理序列，每次可以存入超過(guò)50條處理程序。程序輸入方便，并可以在操作過(guò)程中進(jìn)行實(shí)時(shí)修改。

裝完工件，設(shè)置程序處理序列后，所有操作*自動(dòng)，操作完成后系統(tǒng)會(huì)發(fā)出信號(hào)提示。

裝料方式	工作區(qū)尺寸 (英寸)	工作區(qū)容量(立方英尺)	型號(hào)
前部	12 x 12 x 12	1.0	121212
前部	12 x 12 x 24	2.0	121224
前部	16 x 16 x 32	4.8	161632
前部	16 x 16 x 48	7.0	161648

發(fā)表文章

Ti Reactive Sintering of Electrically Conductive Al₂O₃–TiN Composite: Influence of Ti Particle Size and Morphology on Electrical and Mechanical Properties, Materials 2017, 10, 1348.

上一個(gè)：LVEM25LVEM25小型低電壓透射電子顯微鏡