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產(chǎn)品中心

PRODUCTS CNTER

當前位置:首頁產(chǎn)品中心材料制備/樣品合成薄膜、顆粒、膠體等制備PLD脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)

脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)

產(chǎn)品簡介

脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)(NEW)等由美國BlueWave生產(chǎn),可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、反應濺射、熱絲化學氣相沉積(HFCVD)、熱化學氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)等設(shè)備。

產(chǎn)品型號:PLD
更新時間:2024-04-18
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:3562
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薄膜制備*

 

BlueWave是家著名的美國半導體設(shè)備、材料生產(chǎn)商。BlueWave提供多種薄膜制備系統(tǒng),包括脈沖激光沉積(PLD)、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、反應濺射、熱絲化學氣相沉積(HFCVD)、熱化學氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)。這些系統(tǒng)是理想的薄膜與涂層合成設(shè)備??芍苽涞谋∧ぐǖ铩⒀趸?、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件,例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外,BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層,例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。

 

1、脈沖激光沉積系統(tǒng)

 

 

產(chǎn)品點:

 

電拋光多空不銹鋼超高真空腔體

•可集成熱蒸發(fā)源或濺射源

•可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺

•流量計或針閥準確控制氣體流量

•標準真空計

•干泵與渦輪真空泵

•可選配不銹鋼快速進樣室

•可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)

•是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的設(shè)備

 

2、物理氣相沉積系統(tǒng)(Physical Vapor Deposition Plus)

 

產(chǎn)品點
超高真空不銹鋼腔體

電子束、熱蒸發(fā)、脈沖激光沉積可集成

立襯底加熱,可旋轉(zhuǎn)

多量程氣體流量控制器

標準氣壓計

機械、分子、冷凝真空泵
可選不銹鋼快速進樣室

襯底和源距離可控

可用于金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

 

3、熱化學氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)

 

 

•高溫石英管反應器設(shè)計

•溫度范圍:室溫到1100度

•多路氣體準確控制

•標準氣壓計

•易于操作

 

 

 

 

•可配機械泵實現(xiàn)低壓TCVD

•可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

•液體前驅(qū)體噴頭

•2英寸超大*溫度均勻區(qū)

 

4、熱絲化學氣相沉積系統(tǒng)(HFCVD)

 

產(chǎn)品點:

•水冷不銹鋼超高真空腔

•熱絲易安裝、更換 

•4個不同量程氣體控制器

•標準氣壓計

•襯底與熱絲距離可調(diào)節(jié)

•2英寸襯底加熱、可旋轉(zhuǎn) 

•*制備金剛石和石墨烯 

 

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