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3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫(xiě)機(jī)-NanoFrazor Explore的問(wèn)世，源于IBM蘇黎世研發(fā)中心在納米加工技術(shù)的研究成果。 NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)直寫(xiě)機(jī)*次將納米尺度下的3D結(jié)構(gòu)直寫(xiě)工藝快速化、穩(wěn)定化。通過(guò)靜電力準(zhǔn)確控制的直寫(xiě)垂直精度高達(dá)2nm，可以將256灰度反映的高度信息精細(xì)的轉(zhuǎn)移到直寫(xiě)介質(zhì)上。

高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐是適用于生長(zhǎng)各種超導(dǎo)材料單晶，介電和磁性材料單晶，氧化物及金屬間化合物單晶等。浮區(qū)法單晶爐中的轉(zhuǎn)動(dòng)以及拉伸等控制部分采用了電子控制，與傳統(tǒng)的齒輪變速箱以及離合器相比，這種技術(shù)能夠使得用戶在單晶生長(zhǎng)過(guò)程中獲得更高的控制精度和更高的生長(zhǎng)穩(wěn)定性。

Quantum Design 公司近日推出新款高精度光學(xué)浮區(qū)法單晶爐,這款高性能單晶爐采用鍍金雙面鏡、高反射曲面設(shè)計(jì)，溫度可達(dá)2100-2200攝氏度,系統(tǒng)采用高效冷卻節(jié)能設(shè)計(jì)（不需要額外冷卻系統(tǒng)），穩(wěn)定的電源輸出保證了燈絲的恒定加熱功率. …

薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術(shù)現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、太陽(yáng)能等域的研發(fā)以及成產(chǎn)當(dāng)中，這些技術(shù)包括： 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器（PECVD Reactors） 脈沖激光沉積系統(tǒng)（Pulsed Laser Deposition） 磁控濺射系統(tǒng)（Sputter Deposition System） 電子束沉積系統(tǒng)（E-beam Deposition System）

Microwriter ML3小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊（70cm X 70cm X 70cm），無(wú)掩膜直寫(xiě)系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫(xiě)速度，高分辨率的點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

原子層沉積（Atomic layer deposition）是將氣相前驅(qū)體脈沖交替通入反應(yīng)器，化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的種方法，是種可以將物質(zhì)以單原子膜形式層層鍍?cè)谝r底表面的方法，因此，它是種真正的“納米”技術(shù)，以精確控制方式實(shí)現(xiàn)納米的超薄薄膜沉積。三維原子層沉積系統(tǒng)ALD用飽和化學(xué)吸附的性，可以確保對(duì)大面積、多空、管狀、粉末或其他復(fù)雜形狀基體的高保形的均勻沉積。